高数值孔径(High-NA)光刻机实现从验证到实际部署 阿斯麦(ASML.US)股价有望回暖

XM外汇官网APP报道,高数A光S股瑞银集团(UBS)发布对荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML.US)的值孔证最新看涨研报,维持“买入”评级,刻机目标股价由660欧元上调至750欧元。实现实际瑞银指出,从验阿斯麦在经历了约20%的部署年度表现不佳后,受益于SK海力士、高数A光S股台积电、值孔证三星及英特尔等芯片制造商对高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机需求的刻机快速增长,阿斯麦有可能重回“高质量复合增长”的实现实际轨道。

阿斯麦作为半导体设备行业的从验关键参与者,市值约2900亿美元,部署当前市盈率为27倍,高数A光S股已连续19年分派股息。值孔证在High-NA EUV光刻机需求预期上升及瑞银等机构的刻机乐观预期下,阿斯麦ADR股价在近期上涨2.25%至753.43美元,而在欧洲市场上涨3.57%至647.6欧元。

瑞银分析师指出,市场对光刻强度下降及中国市场不确定性的担忧已经被广泛认知,使投资者对2026至2030年每股收益年复合增长率20%的前景产生积极预期。阿斯麦在过去12个月中营收增长26.4%,毛利率保持在52.5%。

瑞银预计,2027年将迎来显著的业绩提升,主要得益于台积电在A14(1.4nm)先进制程的量产,以及三星与英特尔向2nm以下制程的转型。SK海力士也在推进下一代DRAM的过程中预计会显著提升High-NA需求。

基于深入分析,瑞银认为2027年EUV曝光次数将增加,从19-22次提升至20-24次,围绕英特尔和三星的需求不确定性预计将逐步消退。预计2027与2028年High-NA出货量将在6台与10台左右,分别占阿斯麦当年营业收入增长的约30%。

瑞银还指出,接下来一年可能会有多个催化因素推动阿斯麦股价上涨,包括在半导体业界大型活动中发布关于EUV曝光增加的信息、季度电话会议中High-NA适用及渗透速度的讨论,以及2026年推出的新高价Low NA EUV-F模型等。

阿斯麦2026年的业绩前景仍不明朗,尽管二季度订单强劲,达55亿欧元,环比增长41%,超出市场预期的约48亿欧元,但管理层将2025年营收指引收窄至300亿至350亿欧元的范围,并预测第三季度营收将在74亿至79亿欧元之间,低于市场预期的83亿欧元。

阿斯麦CEO Christophe Fouquet表示,对于2026年增长的可行性仍持谨慎态度,受宏观经济和地缘政治变化的影响,增长的不确定性加大。

德意志银行的目标价已下调至700欧元,Wolfe Research维持对阿斯麦的“跑赢大盘”评级,目标价设在800欧元,强调阿斯麦正向下一代EUV高价机型转型,获取更多利润。美国银行目标价调整至724欧元,以反映订单预测的下调,Erste Group则将评级从“买入”下调至“持有”,因对2026年的薪资增长持保留态度。

高数值孔径(High-NA)光刻机的普及是阿斯麦业绩的长期积极催化因素。瑞银、Wolfe Research等机构认为,芯片制造商在未来几年采纳High-NA EUV技术将有力促进阿斯麦的长期业绩增长。

当前,随着SK海力士和英特尔推动High-NA技术从实验室走向实际应用, 市场对阿斯麦的乐观情绪逐渐上升。阿斯麦是全球最大的光刻机制造商,是台积电、三星及英特尔高端制程芯片的唯一设备供应商。

光刻机是现代工业的基础工具,阿斯麦凭借顶尖技术和人才,能够生产全球最先进的EUV设备,成为芯片生产的重要支柱。对台积电及英特尔等公司的下一代制程技术而言,High-NA光刻机的意义重大。

与当前EUV技术相比,High-NA技术使用0.55 NA镜头,实现更细微的特征印刷,对2nm及以下制程技术的重要性不可小觑。先进的光刻技术将对AI和超高性能计算领域的芯片生产产生深远的影响。

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